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簡要描述：Eksma 防反射鍍膜這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-22訪 問 量：1357詳細(xì)介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 防反射鍍膜
Eksma 防反射鍍膜
這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。
產(chǎn)品介紹
這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
ø25.4 mm光學(xué)元件的價格表
激光線抗反射鍍膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R,%(AOI=0°) | LIDT激光損傷閾值 |
AR266 | ≤ ø 25.4 mm | 266 nm | R<0.4% | 1 J/cm² |
AR343 | ≤ ø 25.4 mm | 333-353 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
AR343HT | ≤ ø 25.4 mm | 333-353 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR355 | ≤ ø 25.4 mm | 355 nm | R<0.25% | 3 J/cm² |
AR355HT | ≤ ø 25.4 mm | 355 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR400 | ≤ ø 25.4 mm | 380-420 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
AR400HT | ≤ ø 25.4 mm | 380-420 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR515 | ≤ ø 25.4 mm | 500-530 nm | R<0.3% | 5 J/cm² |
AR515HT | ≤ ø 25.4 mm | 500-530 nm | R<0.1% | 7 J/cm² |
AR532 | ≤ ø 25.4 mm | 532 nm | R<0.2% | 5 J/cm² |
AR532HT | ≤ ø 25.4 mm | 532 nm | R<0.1% | 7 J/cm² |
AR800 | ≤ ø 25.4 mm | 760-840 nm | R<0.4% | 8 J/cm² |
AR800HT | ≤ ø 25.4 mm | 760-840 nm | R<0.1% | 10 J/cm² |
AR1030 | ≤ ø 25.4 mm | 1000-1060 nm | R<0.3% | 10 J/cm² |
AR1030HT | ≤ ø 25.4 mm | 1000-1060 nm | R<0.1% | 15 J/cm² |
AR1064 | ≤ ø 25.4 mm | 1064 nm | R<0.2% | 10 J/cm² |
AR1064HT | ≤ ø 25.4 mm | 1064 nm | R<0.1% | 15 J/cm² |
雙波段抗反射鍍膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R, %(AOI=0°) | LIDT激光損傷閾值 |
ARD800HT | ≤ ø 25.4 mm | 400+800 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
ARD1030 | ≤ ø 25.4 mm | 515+1030 nm | R<0.5% | 4 J/cm² |
ARD1030HT | ≤ ø 25.4 mm | 515+1030 nm | R<0.1% | 6 J/cm² |
ARD1064 | ≤ ø 25.4 mm | 532+1064 nm | R<0.5% | 4 J/cm² |
ARD1064HT | ≤ ø 25.4 mm | 532+1064 nm | R<0.1% | 6 J/cm² |
寬帶減反射膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R, %(AOI=0°) | 激光損傷閾值 |
ARB300 | ≤ ø 25.4 mm | 210-400 nm | R<2% | 1 J/cm² |
ARB550 | ≤ ø 25.4 mm | 400-700 nm | R<0.9% | 2 J/cm² |
ARB625 | ≤ ø 25.4 mm | 350-900 nm | R<1.5% | 2 J/cm² |
ARB825 | ≤ ø 25.4 mm | 650-1100 nm | R<0.7% | 3 J/cm² |
ARB800 | ≤ ø 25.4 mm | 700-900 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
ARB800HT | ≤ ø 25.4 mm | 700-900 nm | R<0.1% | 5 J/cm² |
ARB1000HT | ≤ ø 25.4 mm | 900-1100 nm | R<0.1% | 5 J/cm² |
ARB1375 | ≤ ø 25.4 mm | 1050-1700 nm | R<0.7% | 2 J/cm² |
Laser Line AR coatings
鍍膜型號 | 波長 | 反射率, % | 損傷閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | nm | AOI=0° | AOI=45° | Threshold |
3005-i0 | 3005-i45 | 193 | < 1.0 | <2.0 | 1 J/cm2 |
3007-i0 | 3007-i45 | 248 | < 0.8 | <1.5 | 1.5 J/cm2 |
3009-i0 | 3009-i45 | 266 | < 0.4 | <1.0 | 1.5 J/cm2 |
3011-i0 | 3011-i45 | 308 | <0.3 | <0.6 | 1.5 J/cm2 |
3014-i0 | 3014-i45 | 343 | <0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3015-i0 | 3015-i45 | 351-355 | < 0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3017-i0 | 3017-i45 | 400 | < 0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3021-i0 | 3021-i45 | 488-514 | < 0.3 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3023-i0 | 3023-i45 | 515 | < 0.2 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3025-i0 | 3025-i45 | 532 | < 0.2 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3027-i0 | 3027-i45 | 633-650 | < 0.25 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3031-i0 | 3031-i45 | 780 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3033-i0 | 3033-i45 | 800 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3035-i0 | 3035-i45 | 850 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3036-i0 | 3036-i45 | 1030 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3037-i0 | 3037-i45 | 1064 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3041-i0 | 3041-i45 | 1320 | <0.3 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3045-i0 | 3045-i45 | 1547 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。
雙波段增透膜
鍍膜型號 | 波長, nm | 反射率, % | 損傷閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | AOI=0° | AOI=45° | Threshold | |
3106-i0 | 3106-i45 | 266 + 532 | <0.5 | <1.0 | 1.5 J/cm2 |
3110-i0 | 3110-i45 | 355 + 532 | <0.5 | <1.0 | 2 J/cm2 |
3114-i0 | 3114-i45 | 355 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 2 J/cm2 |
3118-i0 | 3118-i45 | 400 + 800 | <0.5 | <1.0 | 3 J/cm2 |
3121-i0 | 3121-i45 |
| <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3122-i0 | 3122-i45 | 532 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3126-i0 | 3126-i45 | 670 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3127-i0 | 3127-i45 | 808 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3130-i0 | 3130-i45 | 1064 +1320 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3134-i0 | 3134-i45 | 1064 +1570 | <0.5 | <1.0 | 3 J/cm2 |
請與我們聯(lián)系以獲取其他波長和AOI值。
寬帶增透膜
寬帶抗反射BBAR鍍膜設(shè)計用于在特定波長范圍內(nèi)將組件的反射率降低至接近零。因此，光可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因眩光和散射而丟失。我們的增透膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
鍍膜型號 | 波長, nm | 反射率, % | 損傷閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | AOI=0° | AOI=45° | Threshold | |
3205-i0 | 3205-i45 | 210-400 | <2 | <3 | 1.5 J/cm2 |
3207-i0 | 3207-i45 | 250-350 | <1.2 | <2.5 | 1.5 J/cm2 |
3209-i0 | 3209-i45 | 300-400 | <1.0 | <2.0 | 1.5 J/cm2 |
3211-i0 | 3211-i45 | 350-500 | <0.8 | <1.6 | 2.0 J/cm2 |
3213-i0 | 3213-i45 | 350-900 | <1.5 | <3.0 | 2.0 J/cm2 |
3215-i0 | 3215-i45 | 400-550 | <0.4 | <0.8 | 2.5 J/cm2 |
3217-i0 | 3217-i45 | 400-700 | <0.9 | <1.8 | 3.0 J/cm2 |
3219-i0 | 3219-i45 | 420-680 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3221-i0 | 3221-i45 | 450-750 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3223-i0 | 3223-i45 | 500-800 | <0.6 | <1.2 | 3.0 J/cm2 |
3224-i0 | 3224-i45 | 500-1000 | <1.5 | <3.0 | 3.0 J/cm2 |
3225-i0 | 3225-i45 | 600-900 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3227-i0 | 3227-i45 | 750-900 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3229-i0 | 3229-i45 | 800-1200 | <0.7 | <1.4 | 2.5 J/cm2 |
3231-i0 | 3231-i45 | 1000-1400 | <0.7 | <1.4 | 2.0 J/cm2 |
3232-i0 | 3232-i45 | 1050-1700 | <1 | <1.5 | 2.0 J/cm2 |
3233-i0 | 3233-i45 | 1300-1700 | <0.7 | <1.4 | 2.0 J/cm2 |
3235-i0 | 3235-i45 | 1500-2000 | <0.7 | <1.4 | 1.5 J/cm2 |
這些多層抗反射鍍膜設(shè)計用于將一個非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此，寶貴的激光能量可以通過復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)有效透射，而不會因為眩光和散射而丟失。我們的抗反射（AR）鍍膜旨在按正常入射使用，以這種方式使用時將實現(xiàn)較大的效率透射。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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